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薄膜厚度和溅射功率对有机衬底上ZnO∶Ga薄膜应力的影响

张哲浩 , 吕建国 , 江庆军 , 叶志镇

材料科学与工程学报 doi:10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2016.03.002

在室温(RT)下,采用直流(DC)磁控溅射在聚碳酸酯(PC)衬底上制备Ga掺杂ZnO(GZO)薄膜.通过X射线衍射(XRD)与基片曲率方法研究薄膜的残余应力.提出并讨论了厚度和溅射功率对GZO薄膜的应力影响并证实所有薄膜的应力均是压缩应力.研究表明随着薄膜厚度的增加,外应力可以得到充分释放.而溅射功...

关键词: ZnO∶Ga薄膜 , 应力 , 基片曲率法 , 直流磁控溅射 , 有机衬底