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检索条件:作者=张志龙  

  • 论文(2)

沉积温度对射频磁控溅射TiN薄膜结构和表面形貌的影响

李兆营 , 公衍生 , 田永尚 , 江峰 , 张志龙

电镀与涂饰

在不同沉积温度(25 ~ 400℃)下,利用射频磁控溅射技术在S i(100)基底上制备了TiN薄膜.采用X射线衍射仪和原子力显微镜研究了沉积温度对膜结构和表面形貌的影响,计算了晶面间距和晶格常数,分析了薄膜的应力性质.实验结果表明,不同沉积温度下制备的TiN薄膜主要含有(111)和(220)两种取...

关键词: 氮化钛 , 薄膜 , 射频磁控溅射 , 沉积温度 , 微观结构 , 表面形貌