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检索条件:作者=张继成  

  • 论文(9)

基于FIB/SEM切片和TEM/EELS技术分析Au/Ag泡沫材料的微观结构

张继成 , 谭秀兰 , 周民杰 , 韩尚君 , 李佳 , 罗江山 , 吴卫东 , 唐永建

稀有金属材料与工程

利用FIB/SEM切片、XRD、TEM和EDX、EELS等先进分析技术对微球模板法所制备的Au/Ag泡沫材料的微观结构、形貌、成分及成分分布等进行了细致的研究.结果表明:由微球状Au/Ag球壳堆积而成的泡沫材料中微球直径约8 μm,微球壁厚200~1200 nm; Au/Ag泡沫材料的球壳可细分为3...

关键词: AuAg泡沫材料 , 微结构表征 , TEM/EELS , FIB/SEM断层成像

垂直定向螺旋碳纳米管阵列的大量合成

张继成 , 唐永建 , 易勇 , 马康夫 , 周民杰 , 吴卫东 , 王朝阳

新型炭材料 doi:10.1016/S1872-5805(16)60032-X

以二甲苯作为碳源、二茂铁作为催化剂前驱体,采用催化裂解法大规模合成了具有不同螺距和螺旋直径、垂直于基底生长的碳纳米管阵列。通过拉曼光谱和高分辨透射电镜测试分析,结果表明,所制备的碳纳米管阵列分布均匀、石墨化程度高,且沿其长度方向具有不同的螺距和螺旋直径。由于在碳纳米管的生长过程中,会伴随着碳五环、碳...

关键词: 螺旋形碳纳米管 , 螺距 , 碳六环

X光单级衍射光栅的研究进展

黄成龙 , 张继成 , 易勇 , 曹磊峰 , 王红斌

材料导报

介绍了单级衍射光栅的应用背景及其基本理论,分析了单级衍射光栅与传统黑白透射光栅的不同之处.阐述了单级衍射光栅的制作技术,分析了以电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术为主的工艺路线的优缺点.综述了X光单级衍射光栅的发展历程以及存在的问题,并指出了其未来的研究方向.

关键词: X光单级衍射光栅 , 黑白透射光栅 , 电子束光刻 , X射线光刻

Au/Gd多层膜的制备和表征

张继成 , 王占山 , 吴卫东 , 许华

材料导报

介绍了用磁控溅射法制备Au/Gd(金/钆)多层膜的初步实验结果.在摸索出的工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,按照设计的周期结构(设计周期厚度10nm,Au/Gd=5nm/5nm,总周期数为25)制备了界面清晰、表面光滑的多层膜样品.X-Ray衍射仪小角衍射测试的周期厚度为9.95nm,和设计...

关键词: 磁控溅射 Au/Gd(金/钆)多层膜 X-Ray衍射仪小角衍射 原子力显微镜(AFM)

镁合金微弧氧化膜的相结构研究

李颂 , 刘耀辉 , 张继成 , 宋丽敏

航空材料学报 doi:10.3969/j.issn.1005-5053.2008.06.003

针对镁合金微弧氧化膜层,对其相组成和品粒尺寸随工艺参数的变化规律进行了定件和定量分析,并考察了相组成对膜层耐蚀性能的影响.结果表明:不同工艺参数条件下制备的微弧氧化膜层均由镁铝尖晶石和方镁石两相组成,但两相的含量差别很大.当这两相含量的比值在0.6~1.0范围内时,膜层的耐蚀性明显提高.不同时间内制...

关键词: 镁合金 , 微弧氧化 , 相结构 , 晶粒尺寸

磁控溅射技术新进展及应用

张继成 , 吴卫东 , 许华 , 唐晓红

材料导报

主要简介了磁控溅射技术的基本原理、基本装置、近年来出现的新技术(多靶磁控溅射技术、磁场扫描法、非平衡磁控溅射、脉冲磁控溅射技术、磁控溅射技术与其它成膜技术相结合等),以及国内外利用磁控溅射技术在多层膜和化合物薄膜制备方面取得的一些成果.

关键词: 磁控溅射 , 磁控溅射新技术 , 薄膜制备

Cu掺杂对Be薄膜微结构的影响

周民杰 , 罗炳池 , 李恺 , 张继成 , 李佳 , 吴卫东

中国有色金属学报 doi:10.1016/S1003-6326(11)61298-3

利用离子束溅射法在硅基底上制备高纯Be薄膜并实现Cu元素的可控掺杂,利用x射线能谱、扫描电镜、x射线衍射以及透射电镜等对Cu掺杂Be薄膜进行表征分析.研究结果表明:Cu元素在Be膜内分布均一,且Cu掺杂量对Be薄膜的微观结构有显著影响.Cu掺杂能抑制Be晶粒生长,Be晶粒随着薄膜中Cu含量的增多而减...

关键词: , 薄膜 , 铜掺杂 , 微结构

反应离子刻蚀制备石墨烯纳米盘阵列

李浩 , 付志兵 , 王红斌 , 易勇 , 黄维 , 张继成

人工晶体学报

采用化学气相沉积法以乙醇为碳源在铜箔生长的单层高质量的石墨烯并将其转移到SiO2/Si基底上。然后在通过自组装的方法在石墨烯表面覆盖一层单层的PS微球阵列。采用反应离子刻蚀的方法在一定的刻蚀条件下对其进行刻蚀,随着刻蚀的时间增加,PS微球的会被逐渐刻蚀掉,石墨烯也会在这个过程中随着被刻蚀。将残留的P...

关键词: 石墨烯 , 化学气相沉积 , PS微球 , 反应离子刻蚀 , 石墨烯纳米盘阵列

聚焦离子束系统在微米/纳米加工技术中的应用

张继成 , 唐永建 , 吴卫东

材料导报

聚焦离子束系统是微细加工和分析的主要技术之一,是一个完美的微米/纳米技术研究平台.简述了聚焦离子束系统的组成和主要功能,着重介绍了近年来该技术在离子束刻蚀、反应离子束刻蚀、离子束辅助沉积、离子注入、微区分析、掺杂和成像以及无掩膜曝光等微米/纳米加工领域的应用,并对未来的发展前景进行了简要分析.

关键词: 聚焦离子束 , 刻蚀 , 沉积 , 离子注入 , 微区分析与加工 , 无掩膜曝光