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检索条件:作者=张聪聪  

  • 论文(3)

直流电弧等离子体喷射CVD硼掺杂金刚石薄膜的制备及电化学性能研究

张聪聪 , 戴玮 , 朱宁 , 尹振超 , 吴小国 , 曲长庆

人工晶体学报

采用直流电弧等离子体喷射CVD(Chemical Vapor Deposition)法在硅(100)衬底上制备了(111)占优的掺硼金刚石(BDD)薄膜,研究了压强对薄膜生长的影响,在压强为5500Pa时得到了(100)占优的金刚石薄膜,并用SEM、XRD及拉曼光谱分析了薄膜的表面形貌、晶体结构、薄...

关键词: 直流电弧等离子喷射CVD , 硼掺杂金刚石(BDD) , 循环伏安法 , 多巴胺

全化学法制备缓冲层和YBaCuO超导涂层

樊占国 , 李英楠 , 张聪聪 , 李凤华

材料与冶金学报 doi:10.3969/j.issn.1671-6620.2009.04.006

用化学溶液沉积法,尤其是金属有机物沉积法(MOD)制备第二代超导带材,包括缓冲层和YBaCuO涂层,在当前超导带材研究中具有重要的意义.因为其成本低、操作简单、便于规模化生产,可能成为制备高温超导带材最有前途的方法.文内详述了用化学气相沉积,化学溶液沉积,电泳共沉积以及超声雾化热分解等方法制备YBa...

关键词: 化学法 , 缓冲层 , 导电缓冲层 , YBaCuO涂层导体