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张艳彭晓王福会
材料研究学报
使用Ni与纳米Cr颗粒共沉积方法制备Ni--Cr纳米复合镀层, 研究了镀液中Cr颗粒浓度、搅拌强度和阴极电流密度等工艺参数对镀层中沉积Cr量的影响. 结果表明: 镀层中纳米Cr颗粒的复合改变了电沉积Ni的生长方向, Ni晶粒由原来沿(200)晶面取向生长, 转变为沿(200)、(111)和(220)晶面均匀生长. 镀层中Cr复合量越多, Ni晶粒的形核位置越多, Ni晶粒越细化. 也探讨了Ni--Cr纳米复合镀的沉积机理.
关键词: 复合材料 , composite electrodeposition , Ni–Cr nanocomposite film , microstructure