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检索条件:作者=彭大青  

  • 论文(3)

MOCVD法生长InAlN材料及其微结构特性研究

董逊 , 倪金玉 , 李亮 , 彭大青 , 张东国 , 李忠辉

功能材料 doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2014.增刊(Ⅰ).024

利用MOCVD法,在7.62 cm蓝宝石衬底上生长了InAlN薄膜及InAlN/GaN 异质结材料.利用XRD、AFM、Hall 等测试方法对材料的组分、表面形貌、电学性质等进行了分析,InAlN 薄膜中 In 含量随生长温度的升高明显降低,材料表面为三维岛状结构;与AlGaN/GaN异质结材料相比...

关键词: MOCVD , InAlN , 迁移率

低温GaN插入层对AlGaN/GaN二维电子气特性的改善

张东国 , 李忠辉 , 彭大青 , 董逊 , 李亮 , 倪金玉

人工晶体学报

利用低压MOCVD技术在蓝宝石衬底上生长了AlGaN/GaN二维电子气(2DEG)材料,在GaN生长中插入一层低温GaN,并研究了低温GaN插入层对二维电子气输运特性的影响.使用原子力显微镜(AFM)和非接触霍尔测试仪测量了材料的表面形貌和电学特性,发现低温GaN插入层可以改善材料表面平整度并使Al...

关键词: MOCVD , 缓冲层 , AlGaN/GaN , 二维电子气

高质量GaN薄膜的MOCVD同质外延生长

李亮 , 李忠辉 , 罗伟科 , 董逊 , 彭大青 , 张东国

人工晶体学报

采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术,在GaN自支撑衬底上同质外延生长了GaN薄膜,得到高质量的GaN外延薄膜.X射线衍射(XRD)结果显示其(002)面摇摆曲线半高宽小于100弧秒,原子力显微镜(AFM)照片上能看到连续的二维台阶流形貌,其表面粗糙度小于0.5nm,其位错密度低于106 cm...

关键词: GaN薄膜 , MOCVD , 同质外延