徐锋
,
左敦稳
,
王珉
,
黎向锋
,
卢文壮
,
彭文武
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2004.03.038
较粗糙的表面是影响金刚石厚膜广泛使用的因素之一.本文对CVD金刚石厚膜进行了机械抛光的正交实验研究.实验结果表明,影响抛光效率的因素依次为抛光盘的磨粒、转速、正压力和抛光面积.采用较大粒度的磨盘,适当增加转速和压力有利于提高抛光的效率.此外用XRD方法对机械抛光前后的膜的残余应力进行了测定和对比分析,结果表明,经过机械抛光,残余拉应力明显减小.
关键词:
金刚石厚膜
,
机械抛光
,
正交试验
,
残余应力
,
XRD
