彭栋梁
,
王伟
,
王来森
,
陈远志
,
岳光辉
,
隅山兼治
,
日原岳彦
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2009.02.013
采用等离子体增强射频磁控溅射沉积方法,在室温下制备了Fe-O合金薄膜.研究了氧的掺杂量和薄膜厚度对薄膜软磁和高频特性的影响.结果发现少量氧的掺杂不导致低饱和磁化强度铁氧化物的形成,但可使薄膜晶粒细化,矫顽力下降.在薄膜厚度低于150 nm且氧气与氩气相对流量比为2.4%的条件下,薄膜的实部磁导率高达1100且能够维持到1GHz.
关键词:
氧掺杂
,
厚度
,
软磁特性
,
高频特性
岳光辉
,
林友道
,
王来森
,
彭栋梁
人工晶体学报
使用磁控溅射结合惰性气体冷凝的方法制备了Cu纳米粒子,通过将Cu纳米粒子沉积与ZnO离子束溅射原位复合的方法制得了CuNps@ZnO纳米复合薄膜,并研究了退火温度对CuNps@ZnO纳米粒子复合薄膜的结构和光学性能的影响.通过对样品的表征发现所得产物中存在着低温条件下难以形成的立方相、岩盐结构的ZnO.并且,样品的微观形貌、结晶性和光学性能随着退火温度的变化而发生显著地变化.
关键词:
退火温度
,
ZnO纳米复合薄膜
,
离子束溅射
,
光学性能
王来森
,
刘小龙
,
张魁
,
彭栋梁
金属功能材料
doi:10.13228/j.boyuan.issn1005-8192.2016027
采用反应溅射的方法制备了一系列不同CrAlSiN层厚度的[(CrAlSiN)d/(Si3N4)0.33nm]n多层膜,并系统研究了CrAlSiN层厚度对其结构、形貌、力学性能和抗氧化行为的影响.研究表明,当CrAlSiN层厚度为3.2 nm时,[(CrAlSiN)d/(Si3N4)0.33nm]n纳米多层膜具有最优异的力学性能,此时硬度高达34 GPa.随后在空气气氛下用高温管式炉对[(CrAlSiN)d/(Si3N4)0.33.]n多层膜进行氧化实验,氧化温度为700、800、900℃,保温时间2h.实验结果表明,800℃氧化处理后,多层膜仍能保持28.5 GPa的硬度值,显示出优秀的抗氧化能力.
关键词:
[CrAlSiN/Si3N4]n多层膜
,
硬质涂层
,
磁控溅射
,
力学性能
,
抗氧化性能
