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脉冲激光沉积b轴取向BaTi₂O₅薄膜的研究

王传彬 , 涂溶 , 後藤孝 , 沈强 , 张联盟

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2008.00553

采用脉冲激光沉积(PLD)技术, 在MgO(100)基片上制备了b轴取向的BaTi₂O₅薄膜, 研究了基片温度(T_sub)、氧分压(P_O2)等沉积工艺对薄膜结构的影响. 结果表...

关键词: BaTi₂O₅薄膜 , b-axis orientation , substrate temperature , oxygen partial pressure

PbTe热电材料的氧化行为

涂溶 , 陈立东 , 後藤孝 , 平井敏雄

材料研究学报

研究了热电材料PbTe在高温(700～900K)、氧分压为0.01～100kPa时的氧化行为发现氧化物均为Pb—D—O的三元化合物且随温度及氧分压的变化有规律地分布在高温低氧分压条件下,试样质量减少,生成Pb3TeO5或者Pb5TeO7;而在低温高氧分压条件下,试样质量增加,生成PbTeO3或者Pb...

关键词: 高温氧化 , lead telluride (PbTe) , thermoelectric material

脉冲激光沉积b轴取向BaTi2O5薄膜的研究

王传彬 , 涂溶 , 後藤孝 , 沈强 , 张联盟

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2008.03.027

采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在MgO(100)基片上制备了b轴取向的BaTi2O5薄膜,研究了基片温度(Tsub)、氧分压(Po2)等沉积工艺对薄膜结构的影响.结果表明: BaTi2O5薄膜的物相及取向性都随基片温度和氧分压的改变而变化,薄膜呈现(710)或(020)取向生长,最佳的PLD沉积条...

关键词: BaTi2O5薄膜 , b轴取向 , 基片温度 , 氧分压

激光化学气相沉积快速生长高取向TiN_x薄膜的研究

公衍生 , 涂溶 , 後藤孝

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00391

采用激光化学气相沉积（LCVD）技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiN_x薄膜,重点研究了激光功率（PL）、衬底预热温度（T_pre）和沉积总压力（P_tot）对薄膜取向和沉积速率的影响...

关键词: TiN_x薄膜 , highspeed deposition , orientation , laser chemical vapor deposition (LCVD)

激光化学气相沉积快速生长高取向TiN_x薄膜的研究

公衍生 , 涂溶 , 後藤孝

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2010.00391

采用激光化学气相沉积(LCVD)技术在氧化铝衬底上制备了高取向的TiN_x薄膜,重点研究了激光功率(P_L)、衬底预热温度(T_(pre))和沉积总压力(P_(tot))对薄膜取向和沉积速率的影响,采用X射线衍射(XRD)、俄歇能谱(AES)和场发射扫描电镜(FESEM)对薄膜组成和结构进行了表征....

关键词: TiN_x薄膜 , 快速生长 , 取向 , 激光化学气相沉积(LCVD)

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