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BN薄膜的制备及BPXN1-X薄膜的紫外光敏特性

祁英昆 , 张溪文 , 徐世友 , 韩高荣

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2003.03.004

采用热丝和射频等离子体辅助化学气相沉积方法(HF-PECVD),以单晶硅为衬底在低温(< 500℃)条件下沉积氮化硼(BN)薄膜材料.通过傅立叶变换红外光谱(FTIR)、 X射线衍射(XRD)及扫描电镜(SEM)对薄膜样品的组成和结构进行了分析,探讨了温度和等离子体对沉积BN薄膜的影响.此外,用紫外-可见光分光光度计(UV)测试了石英衬底上生长磷掺杂氮化硼(BPXN1-X)薄膜样品的紫外吸收特征,分析了磷掺杂对 BN光学能隙的调节作用以及 BPXN1-X薄膜在紫外空间探测领域的应用前景.结果表明,以单晶硅和光学石英玻璃为衬底在低温条件下用 HF-PECVD方法可以沉积较高质量的 BN薄膜,BN的光学能隙宽度通过磷的掺杂可以得到连续调节,在紫外空间光探测领域具有很大的应用潜力.

关键词: BN薄膜 , HF-PECVD , 低温制备 , 磷掺杂 , 紫外光探测

BPxN1-x薄膜的制备及磷元素对其光学能隙的影响

徐世友 , 祁英昆 , 张溪文 , 韩高荣

材料科学与工程学报 doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2003.03.005

本文从应用出发,选择光学石英为衬底,采用热丝辅助射频化学气相沉积的方法沉积BPxN1-x薄膜,对样品进行了X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见等测试.XRD、SEM结果显示薄膜多晶态,表面形貌随时间变化,最终为胞状;紫外-可见光光谱结果显示BPxN1-x薄膜的紫外吸收边随沉积时间的加长、PH3流量的增加而向长波长方向移动.因此,该材料的光学能隙可以通过生长工艺适当调整.另外,BPxN1-x薄膜与液晶层能较好匹配等特性更使其适用于紫外空间光调制器.

关键词: BPxN1-x薄膜 , 光学能隙 , 磷掺杂 , 紫外液晶光阀

HF-PECVD法生长BN1-xPx薄膜

徐世友 , 张溪文 , 韩高荣

功能材料

以光学石英片为衬底,采用热丝-等离子体辅助化学气相沉积方法(HF-PECVD)沉积了BN1-xPx薄膜.通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDAX)、紫外-可见(UV-VIS)等测试手段研究了薄膜的化学组成、结构以及P元素掺杂量对BN1-xPx薄膜材料光学带隙的调制规律.结果表明所沉积薄膜为B、P、N组成的三元化合物,没有相偏析,定向生长,与石英衬底结合牢固.BN1-xPx薄膜中随着磷元素相对含量的增加,其光学带隙相应窄化,即通过控制磷的掺杂量可以有效调整该薄膜材料的光学带隙.

关键词: BN1-xPx薄膜 , 磷掺杂 , 光学带隙

介质阻挡放电化学气相沉积法制备DLC薄膜研究

张溪文 , 徐世友 , 韩高荣

功能材料

采用介质阻挡化学气相沉积法(DBD-CVD)在Si及石英衬底上、室温下成功的沉积出光滑、致密、均匀、膜基结合较好的类金刚石(DLC)薄膜,并考察了电源电压对类金刚石薄膜结构及性能的影响.拉曼光谱(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见光谱(UV-Vis)、高阻仪等测试及分析结果显示DBD-CVD法适于制备高质量硬质DLC薄膜.对DBD放电做了理论分析,结果与工艺研究的结论相符合.

关键词: DBD-CVD , DLC , 拉曼光谱

介质阻挡放电常压化学气相沉积技术及其在薄膜制备中的应用

徐世友 , 张溪文 , 韩高荣

材料导报

介质阻挡放电(DBD)是一种可以在常压下工作的放电形式,以这种放电形式为离子源的介质阻挡化学气相沉积(DBD-CVD)技术可以以较高的反应物流量实现多种薄膜的沉积,因而有广阔的应用前景.综述了DBD技术的发展历史及相关理论,着重介绍了DBD-CVD技术及其应用现状,并提出展望.

关键词: PECVD DBD DBD-CVD

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