蔡长龙
,
王季梅
,
弥谦
,
杭凌侠
,
严一心
,
徐均琪
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2002.06.009
薄膜沉积速率是影响薄膜性能的重要参数,研究它对于沉积优良的类金刚石薄膜具有重要的作用.针对脉冲真空电弧离子镀的具体工艺参数,研究了各种工艺参数对类金刚石薄膜沉积速率的影响,找出了影响类金刚石薄膜沉积速率的主要参数,得到了各种工艺参数下类金刚石薄膜沉积速率的曲线.
关键词:
脉冲电弧
,
沉积速率
,
类金刚石薄膜
徐均琪
,
樊慧庆
,
刘卫国
,
杭凌侠
材料科学与工程学报
doi:10.3969/j.issn.1673-2812.2007.06.010
红外减反射保护膜具有特定的厚度要求,如能进一步减小无氢类金刚石膜(DLC)的光学吸收,就能使其在较大厚度时不过分损失光通量而得以广泛应用.从这点来讲,无氢类金刚石膜是一种极具开发潜力的材料.本文采用非平衡磁控溅射技术(UBMS)制备了无氢类金刚石膜,并研究了其厚度均匀性.研究结果表明:该非平衡磁控溅...
关键词:
类金刚石膜(DLC)
,
非平衡磁控溅射(UBMS)
,
厚度均匀性
,
物理气相沉积(PVD)
蔡长龙
,
王季梅
,
杭凌侠
,
严一心
,
徐均琪
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2002.03.003
采用脉冲真空电弧离子源镀制了类金刚石薄膜,研究了影响类金刚石薄膜硬度的各种因素,包括:基片温度、主回路电压、清洗时间、膜层厚度和脉冲频率等,分析了各种镀制参数对薄膜硬度的影响机理,找出了最佳镀制工艺参数.
关键词:
类金刚石薄膜
,
脉冲电弧
,
硬度
,
工艺参数
徐均琪
,
郭芳
,
苏俊宏
,
邹逢
表面技术
目的 研究激光薄膜的膜系结构及提高激光损伤阈值的制备工艺.方法 基于场强优化分布,设计Si基底上3～5 μm增透、1064 nm截止的激光薄膜,对镀后的薄膜进行激光辐照处理和真空退火处理,分析薄膜的相关性能.结果 薄膜内部不同的场强分布会对其激光损伤特性产生不同的影响.在满足光学性能的情况下,采用适...
关键词:
薄膜
,
激光损伤阈值
,
优化
,
退火
邹逢
,
徐均琪
,
苏俊宏
,
马健波
表面技术
为了提高光学薄膜元件抗激光损伤的能力,除了寻找先进的镀膜方法及工艺外,还可采取后期处理,因为后期处理对激光损伤阈值(LIDT)也有重要影响.采用输出波长为1064nm的调QNd∶YAG激光器,对膜厚为λ/2(λ=1064nm)的单层BaF2薄膜进行激光预处理,研究了其激光损伤特性.在光斑大小一定的条...
关键词:
激光预处理
,
薄膜
,
BaF2
,
激光损伤阈值
李传志
,
徐均琪
,
严一心
材料导报
利用非平衡磁控溅射技术溅射复合靶制备了一系列掺杂金属元素钛的类金刚石膜,并对薄膜的机械性能、沉积速率、电学性能及化学性能进行了测试,主要分析了影响机械性能、沉积速率的主要参数并确定了最佳工艺参数,同时阐述了其电学性能及化学性能结果.
关键词:
非平衡磁控溅射
,
钛掺杂
,
复合靶
,
正交实验
刘衡平
,
徐均琪
,
严一心
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.01.003
利用非平衡磁控溅射(UBMS)技术在硅基片上制备了无氢碳膜,并采用Raman光谱、X射线衍射、傅立叶变换光谱等手段对不同靶电流下沉积的薄膜的微观结构、沉积速率、粗糙度、表面接触角及红外透过率进行了研究.试验结果表明:随着靶电流的增大,薄膜的沉积速率增大,薄膜中sp3键含量增加,薄膜表面接触角增大,红...
关键词:
非平衡磁控溅射
,
类金刚石
,
性能
,
结构
