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  • 论文(4)

在镜像投影曝光机上使用相移掩膜提高解像力的初步研究

黎午升 , 惠官宝 , 崔承镇 , 史大为 , 郭建 , 孙双 , 薛建设

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20142904.0544

实现高PPI(单位面积像素个数),需要更细的线宽和更窄的间距,这往往受到光刻设备解像力的限制,本文对基于不改造镜像投影曝光设备而提高光刻解像力进行研究.用半导体工艺模拟以及器件模拟软件模拟分析了离焦量为0时,相位移掩膜和传统掩膜下2.5 μm等间隔线的光强分布.根据设备参数模拟分析离焦量为15、30...

关键词: 相移掩膜 , 等间隔线 , 模拟 , 曝光容限 , 解像力

量子点发光在显示器件中的应用

张锋 , 薛建设 , 喻志农 , 周伟峰 , 惠官宝

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20122702.0163

介绍了量子点材料的发光原理、基本结构,以及量子点LED的特性、制备方法以及其在显示领域的最新进展.量子点LED由于具有发光纯度高、使用寿命长、可由溶液法制备等独特的优点,越来越受到人们 的重视,成为显示领域新的研究热点.

关键词: 量子点 , 发光二极管 , 显示器件 , 色域

白色光阻材料在O GS工艺中的应用

冯京 , 徐传祥 , 张方振 , 惠官宝 , 张锋 , 姚琪

液晶与显示 doi:10.3788/YJYXS20163106.0525

分析了白色光阻材料在不同温度、不同厚度和不同化学品浸泡下色度值、分辨率和附着力的变化情况.验证了白色光阻材料在 OGS(One glass solution)触摸屏生产中的工艺条件.首先,关注白色光阻材料的光密度值(OD值)、分辨率、耐化性、耐高温性能以及在不同厚度下白色光阻材料的色度变化.然后对白...

关键词: 白色光阻 , 色度 , 耐化性 , 光密度

非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管关键工艺研究

高锦成 , 李正亮 , 曹占锋 , 姚琪 , 关峰 , 惠官宝

硅酸盐通报

为优化金属氧化物薄膜晶体管( IGZO-TFT)的特性,采用射频磁控溅射法沉积IGZO薄膜作为半导体活性层,制备出具有刻蚀阻挡层( Etch stop layer ,ESL)结构的IGZO TFT,在2.5 G试验线上研究了IGZO沉积过程中O2浓度、IGZO沉积后N2 O等离子体处理、ESL的制备...

关键词: 铟镓锌氧化物薄膜晶体管 , 刻蚀阻挡层 , N2 O等离子体 , 阈值电压

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