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氧流量对磁控溅射ZrO2薄膜光学性能的影响

戚云娟 , 朱昌 , 梁海峰

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.05.005

采用反应磁控溅射法在k9玻璃基底上沉积ZrO2薄膜.用轮廓仪、椭圆偏振仪和分光光度计,分别测试薄膜的厚度、折射率、消光系数和透过率,研究了不同氧流量对薄膜沉积速率和光学特性的影响.结果表明:随着氧气流量增加到22～24 mL/min(标准状态下)时,沉积速率从6.8 nm/s下降到2.5 nm/s,...

关键词: ZrO2薄膜 , 反应磁控溅射 , 氧流量 , 光学特性