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磁控溅射气体参数对氧化铟薄膜特性的影响

才玺坤 , 原子健 , 朱夏明 , 张兵坡 , 邱东江 , 吴惠桢

人工晶体学报

采用射频磁控溅射法生长氧化铟薄膜,研究了溅射气压和溅射气体对氧化铟薄膜结构及光电特性的影响.X射线衍射结果表明制得的薄膜为立方结构的多晶体,随着溅射气压的升高,薄膜晶粒尺寸变大.1 Pa下沉积的氧化铟薄膜具有最大的迁移率和最小的载流子浓度,分别为15.2 cm2/V·s和1.19×1019cm-3....

关键词: In2O3 , 磁控溅射 , 溅射气压 , 电学特性 , 氧空位