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W、Bi掺杂及(W、Bi)共掺锐钛矿TiO2的第一性原理计算

支晨琛 , 张秀芝 , 宫长伟

材料科学与工程学报 doi:10.14136/j.cnki.issn1673-2812.2016.01.026

基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理,采用平面波超软赝势方法计算研究了W,Bi掺杂以及(W,Bi)共掺杂锐钛矿相TiO2的能带结构、电子态密度和吸收光谱.研究结果表明:W掺杂、或者是(W、Bi)共掺杂都能够使锐钛矿型TiO2的禁带宽度变窄,其光谱影响范围向可见光区域移动.Bi掺杂后杂质能级的出现抵消了禁带宽度的变宽,光催化效果较明显,可以出现红移.与W,Bi单掺杂相比,(W、Bi)共掺杂在可见光区域的光吸收强度更大,红移现象更明显,即其光催化效果更好.

关键词: TiO2 , 第一性原理 , 掺杂 , 光催化

钕铁硼永磁体电镀镍工艺优化及镀层性能

张秀芝 , 支晨琛 , 薛康

电镀与涂饰

以钕铁硼永磁体为基体,电沉积制备镍镀层.以镍镀层的耐蚀性、结合力、显微硬度和腐蚀电位为性能指标,通过正交试验得到最优配方和工艺条件为:NiSO4·6H2O 250 g/L,NiCl2·6H2O 30 g/L,H3BO3 35 g/L,糖精钠0.5 g/L,十二烷基硫酸钠(SDS)1g/L,pH 5.0,电流密度2.0 A/dm2,温度50℃.在最佳工艺下制备的镍镀层结晶细致、均匀,结合力为9级,显微硬度为644.0 HV.与钕铁硼基体相比,Ni镀层在3.5% NaCl溶液中的腐蚀电位正移了0.43 V,腐蚀电流密度降低了近2个数量级,表明电镀镍可提高钕铁硼的耐蚀性.

关键词: 钕铁硼永磁体 , 电镀镍 , 耐蚀性 , 结合力 , 显微硬度 , 正交试验

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