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碳纳米带的催化生长及其机理的研究

赵勇 , 俞进 , 盛广沪 , 高跃飞 , 方利广 , 梁晓军

硅酸盐通报

采用热化学气相沉积法(thermal chemical vapor deposition,TCVD)在经过高温氨气处理后的硅基铁纳米薄膜表面实现片状碳纳米带的催化生长.通过场发射扫描电子显微镜(field emission scanning electron microscopy,FESEM)的观察...

关键词: 碳纳米带 , 催化剂 , 化学气相沉积 , 生长机理