黄志强
,
徐政
,
方明豹
,
俞建群
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2000.04.021
用粉体制备和高温熔凝工艺在n<111>型单晶硅基片上制备了非晶态SiO2-ZnO-B2O3复合膜驻极体,实现对SiO2薄膜驻极体的改性恒栅压电晕充电、等温表面电位衰减及热刺激放电(thermally stimulated discharged,TSD)实验表明,B3+、Zn2+的掺杂对SiO2薄膜驻极体的电荷动态特性有较大影响:TSD放电电流峰稳定于t=238℃处,峰位不随充电温度和充电电压变化;正、负TSD电流谱关于温度轴对称.用离子掺杂可以有效地改变SiO2薄膜驻极体内的微观网络结构,影响其电荷贮存性能.
关键词:
离子掺杂
,
二氧化硅
,
复合膜
,
驻极体
方明豹
,
徐政
,
崔玉建
,
方明虎
材料研究学报
doi:10.3321/j.issn:1005-3093.2001.06.010
研究了铁磁性超导体EuSr2RuCu2O8的结构,超导电性和磁性结果表明,该化合物为欠掺杂超导体,其超导转变起始温度为Tonset c=35K,零电阻温度为Tc(ρ=0)=10K,铁磁转变居里温度为Tc=130.2K.
关键词:
超导电性
,
铁磁性
,
EuSr2RuCu2O8化合物