郝玉清
,
张果虎
,
常青
,
方锋
,
吴志强
,
万关良
,
秦福
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.1998.06.017
为控制氧径向均匀性, 选择Φ350 mm热场. 增加晶转速度可以改善氧径向均匀性, 但石英坩埚转速对氧径向均匀性没有明显影响.
关键词:
Φ125
,
mm硅单晶
,
氧径向均匀性
,
热场
,
晶转速度
,
石英坩埚转速
曲翔
,
陈海滨
,
方锋
,
汪丽都
,
周旗钢
,
闫志瑞
人工晶体学报
气相掺杂法因其简易灵活、生产周期短、成本较低的优点成为生产区熔硅单晶重要的辅助方法.本文根据区熔(FZ)硅单晶气相掺杂原理,结合单晶生长速度、单晶直径、气体流量、气体浓度、掺杂物的分凝、单晶对掺杂气体吸收率等一系列生长条件,进行理论计算并与实际生产相结合,进一步推算出掺杂量与电阻率关系的公式.通过该公式,可以更加准确控制气相掺杂硅单晶的电阻率,使理论计算与实际电阻率误差从20%降低到10%,从而降低生产成本.
关键词:
气相掺杂
,
区熔硅单晶
,
电阻率
张果虎
,
常青
,
方锋
,
吴志强
,
周旗钢
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.1998.01.017
在全自动拉晶条件下, 讨论了拉制Φ200 mm硅单晶遇到的新问题. 热场配置、工艺参数的选择、石英坩埚的选用等有了更严格的要求. 合理的轴向温度梯度和径向温度梯度、低拉速、低晶转及规范的拉晶工艺是拉制大直径单晶的关键.
关键词:
Φ200
,
mm硅单晶
,
无位错
,
热场
,
工艺参数
,
系统操作参数表