施立群
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晏国强
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周筑颖
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胡佩钢
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罗顺中
,
丁伟
金属学报
本文研究Zr薄膜在等离子体作用下的氢化特性.测试表明,与分子氢相比,氢等离子体作用下氢化速率明显增高,在室温和≈2Pa氢压的DC放电条件下,氧化10 min样品的氢化浓度可达饱和值,即66.67(原子分数,%),远大于该压强下的气体氢化浓度.在非超清洁系统中,等离子体氢化在样品表面产生大量的氧污染和少量的碳污染.少量的表面氧化物并不阻碍等离子体氢化,但随着污染的增加,氢化浓度却大大减少.Ni对样品表面氢分子解离吸附和氢原子再结合逸出有着不同程度的催化作用,在低的放电压强和放电电流下,表面镀Ni使Zr的稳态氢化浓度减小;而在高压强、低电流下,表面镀Ni可增加Zr的氢化效率.
关键词:
Zr薄膜
,
null
,
null
施立群
,
周筑颖
金属学报
用前向反冲方法和高能非Ｒｕｔｈｅｒｆｏｒｄ背散射研究了磁控溅射制备的Ｔｉ－Ｍｏ合金薄膜的氢化性能和碳、氧污染的影响, 掺Ｍｏ的Ｔ洽 金薄膜不仅能大大减低碳的污染, 而且较纯钛有较高的吸氢性能合金氢化后由δ相氢化物和β相固溶体组成, 随着Ｍｏ成分增加, 合金中的β－（Ｔｉ, Ｍｏ）含量上升, 当ＭＯ含量约２０时可形成单一的β相固溶体此时氢含量仍可在４５以上. Ｔｉ－Ｍｏ合金薄膜同时也具有良好的附着力和抗粉化性能.
关键词:
Ti－Mo合金
,
null
,
null
,
null
施立群
,
晏国强
,
周筑颖
,
胡佩钢
,
罗顺中
,
丁伟
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2002.09.016
本文研究Zr薄膜在等离子体作用下的氢化特性.测试表明,与分子氢相比,氢等离子体作用下氢化速率明显增高,在室温和≈2Pa氢压的DC放电条件下,氧化10 min样品的氢化浓度可达饱和值,即66.67(原子分数,%),远大于该压强下的气体氢化浓度.在非超清洁系统中,等离子体氢化在样品表面产生大量的氧污染和少量的碳污染.少量的表面氧化物并不阻碍等离子体氢化,但随着污染的增加,氢化浓度却大大减少.Ni对样品表面氢分子解离吸附和氢原子再结合逸出有着不同程度的催化作用,在低的放电压强和放电电流下,表面镀Ni使Zr的稳态氢化浓度减小;而在高压强、低电流下,表面镀Ni可增加Zr的氢化效率.
关键词:
Zr薄膜
,
氢化
,
等离子体
施立群
,
金钦华
,
刘超卓
,
徐世林
,
周筑颖
原子核物理评论
doi:10.3969/j.issn.1007-4627.2005.01.045
研究了用He/Ar混合溅射气体的直流磁控溅射制备钛膜中He的掺入现象.分析结果表明,大量的He原子(He/Ti原子比高达56%) 被均匀地引入到Ti膜中,He含量可由混合溅射气体的He分量精确控制.通过调节溅射参数,可实现样品中He的低损伤引入.研究还发现,溅射沉积的含氦Ti膜具有较高的He成泡剂量和高的固He能力,这可能是溅射沉积形成了纳米晶Ti膜所致.纳米晶Ti膜较粗晶材料具有很高浓度的He捕陷中心,使He泡密度增大而泡尺寸减小.随He引入量的增加,Ti膜的晶粒尺寸减小,He引起的晶体点阵参数和X射线衍射峰宽度增大,晶体的无序程度增加.
关键词:
氦
,
损伤
,
泡
,
钛膜
,
溅射沉积
施立群
,
周筑颖
,
赵国庆
金属学报
doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2000.05.017
用前向反冲方法和高能非Rutherford背散射方法研究了磁控溅射制备的Ti-Mo合金薄膜的氢化性能和碳、氧污染的影响.掺Mo的Ti合金薄膜不仅能大大减低碳的污染,而且较纯钛有较高的吸氢性能.合金氢化后由δ相氢化物和β相固溶体组成.随着Mo成分增加,合金中的β-(Ti,Mo)含量上升.当Mo含量(原子分数,%)约20时可形成单一的β相固溶体,此时氢含量(原子分数,%)仍可在45以上.Ti-Mo合金薄膜同时也具有良好的附着力和抗粉化性能.
关键词:
Ti-Mo合金
,
薄膜
,
氢化
