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高功率脉冲磁控溅射研究进展

暴一品 , 李刘合 , 刘峻曦 , 张骁

原子核物理评论 doi:10.11804/NuclPhysRev.32.S1.52

高功率脉冲磁控溅射(High-power impulse magnetron sputtering，HiPIMS)是一种峰值功率极高，靶材原子高度离化的离化物理气相沉积技术。HiPIMS电源高压脉冲输出到磁控靶的脉冲功率密度可达103 kW/cm2；施加在溅射靶上的负电压只有在达到或超过“雪崩式”放...

关键词: 磁控溅射 , 等离子体 , HiPIMS