曲兆通
,
李冰冰
,
孙德
,
苗晓玲
高分子材料科学与工程
doi:10.16865/j.cnki.1000-7555.2017.03.002
采用γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(A-174)水解缩合反应合成超支化聚硅氧烷(HPSiO),并用其改性聚偏氟乙烯(PVDF)制备疏水HPSiO-PVDF微孔膜.通过红外光谱、核磁共振、水接触角、孔隙率、孔径分布、力学强度等表征方法研究了所制膜的结构和性能,以及微孔膜膜蒸馏性能.结果表明,HPSiO的加入降低了膜孔径,提高了微孔膜的孔隙率、疏水性能、力学性能及真空膜蒸馏性能.
关键词:
超支化聚硅氧烷
,
聚偏氟乙烯
,
微孔膜
,
膜蒸馏
