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氧分压对磁控溅射ZnO薄膜生长行为和光学特性的影响

刘明 , 魏玮 , 曲盛薇 , 谷建峰 , 马春雨 , 张庆瑜

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2008.01096

采用反应射频磁控溅射方法, 在Si(001)基片上制备了具有高$c$轴择优取向的ZnO薄膜. 利用原子力显微镜、X射线衍射、透射光谱和室温光致荧光光谱等分析技术, 研究了氧分压对薄膜的表面形貌和光学特性的影响. 研究结果显示: 0.04~0.23Pa的氧分压范围内, ZnO薄膜存在三个不同的生长模式...

关键词: ZnO薄膜 , reactive radio-frequency magnetron sputtering , morphological analysis , optical properties

氧分压对磁控溅射ZnO薄膜生长行为和光学特性的影响

刘明 , 魏玮 , 曲盛薇 , 谷建峰 , 马春雨 , 张庆瑜

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2008.06.002

采用反应射频磁控溅射方法,在Si(001)基片上制备了具有高c轴择优取向的ZnO薄膜.利用原子力显微镜、X射线衍射,透射光谱和室温光致荧光光谱等分析技术,研究了氧分压对薄膜的表面形貌和光学特性的影响.研究结果显示:0.04~0.23Pa的氧分压范围内,ZnO薄膜存在三个不同的生长模式,薄膜生长模式转...

关键词: ZnO薄膜 , 反应磁控溅射 , 形貌分析 , 光学特性