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Impact of Yb3+/Er3+ions on crystallization of phosphosilicate glass melts

鲁强 , 刘树江 , 曹万强 , 赵萍

稀土学报(英文版) doi:10.1016/S1002-0721(14)60401-4

关键词:

新型光刻技术的现状与进展

杨向荣 , 张明 , 王晓临 , 曹万强

材料导报

大尺寸、细线宽、高精度、高效率、低成本成为IC产品发展的趋势,随着集成度的提高,芯片制造中最关键的制造工艺--光刻技术也面临着愈来愈多的难题.新兴的193 nm浸入式技术、157 nm极短紫外光刻(Euv)、电子束投影光刻(EPL)、纳米压印光刻等技术将是解决这些问题的关键.介绍了193nm浸入式技...

关键词: 光刻 , 光源 , 曝光