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厚度对室温沉积ZnO:Al薄膜光电特性的影响

孟超 , 王文文 , 顾宝霞 , 曹晔 , 刁训刚 , 康明生

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2009.06.018

利用直流磁控溅射法, 在室温玻璃衬底上制备了具有良好附着性的多晶ZnO∶ Al(ZAO)薄膜. 比较了室温下获得的薄膜与衬底加热条件下所得薄膜的结晶程度, 研究了厚度对室温条件下制备的ZAO薄膜表面形貌、电学性能及紫外-可见-近红外光区透光性的影响. 结果表明, 室温条件下制备的ZAO薄膜也具有(002)面择优取向, 随着膜厚的增加薄膜晶粒化程度提高, 载流子浓度和迁移率增大, 电阻率下降, 薄膜在紫外光区的吸收边发生红移, 在可见光区的平均透过率降低, 在近红外光区的透过率随厚度的增加而减小. 厚度为1200 nm的ZAO薄膜具有最佳光电综合性能, 其电阻率为7.315×10~(-4) Ω·cm, 方块电阻为6.1 Ω/□, 可见光区平均透过率达到82%, 波长为550 nm处的透过率为87%.

关键词: 直流磁控溅射 , ZnO , Al薄膜 , 透明导电薄膜 , 光电特性

可见光迷彩低红外发射率薄膜制备及其特性

王丛 , 刁训刚 , 曹晔

宇航材料工艺 doi:10.3969/j.issn.1007-2330.2010.06.014

采用多弧离子镀技术,在Al基底上制备了TiO2/TiN多层膜.通过控制基底材料的粗糙度使制备出的薄膜在可见波段具有非镜面反射效果.采用扫描电镜、红外辐射率测量仪、紫外-可见-近红外光光度计等测试手段对薄膜样品进行了表征.结果表明,采用多弧离子镀法在Al基底上制备了结合力良好、具有迷彩效果的低红外发射率薄膜.研究发现,随氧化层厚度增加,薄膜发射率趋向稳定(0.2左右).薄膜电阻随氧化层厚度的变化无明显变化.

关键词: 多弧溅射 , 低红外发射率 , 迷彩

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