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磁控溅射技术制备硅纳米晶多层膜及微观结构表征

赵志明 , 马二云 , 张晓静 , 田亚萍 , 屈直 , 百穹 , 曹智睿 , 白力静 , 张国君 , 蒋百灵

功能材料

摘要:在室温下,分别利用常规磁控溅射和反应磁控溅射技术交替沉积Si薄膜和Si1-xNx薄膜在单晶硅基体上制备了Si/Si1-xNx纳米多层膜。接下来,在高温下对Si/Si1-xNx多层膜进行退火诱发各层中形成硅纳米晶。研究了Si1-xNx层厚度和N2流量沉积对si/Si1-xNx多层膜中Si量子点形...

关键词: 磁控溅射技术 , Si/Si1-xNx多层膜 , Si纳米晶 , Si3N4纳米晶 , TEM

CIGS薄膜太阳能电池用Mo背电极的制备与结构性能研究

赵志明 , 丁宇 , 曹智睿 , 田亚萍 , 屈直 , 张国君 , 蒋百灵

材料导报

利用磁控溅射技术在Sode-lime玻璃衬底上沉积CIGS薄膜太阳能电池用金属Mo背电极薄膜,并研究了Mo靶功率、基片脉冲宽度以及预清洗时间对Mo薄膜的相结构、形貌及电阻率的影响.结果表明,沉积的Mo薄膜均沿(110)晶面呈柱状择优生长;增大Mo靶溅射功率可以促进薄膜晶粒长大、提高薄膜的致密性、降低...

关键词: Mo薄膜 , 磁控溅射 , XRD , SEM

不同S值磁控阴极溅射沉积Mo薄膜的结构与性能研究

赵志明 , 张晓静 , 马二云 , 曹智睿 , 白力静 , 蒋百灵

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2012.03.014

在室温下,利用不同磁感应强度相对分布因子S的磁控阴极溅射沉积了金属Mo薄膜.实验研究了磁控阴极S值对放电参数、Mo薄膜的结构、形貌及性能的影响.分别利用XRD,SEM和四探针技术对Mo薄膜的相结构、表面和截面形貌及电阻率进行表征分析.结果表明,随着磁控阴极S值的增加,Mo靶放电电压降低,而放电电流增...

关键词: 磁感应强度分布因子 , Mo薄膜 , 磁控溅射 , 电阻率

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