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工作气压对磁控溅射Mo膜的影响

廖国 , 王冰 , 张玲 , 牛忠彩 , 张志娇 , 何智兵 , 杨晓峰 , 李俊 , 许华 , 陈太红 , 曾体贤 , 谌家军

表面技术 doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.06.024

采用直流磁控溅射沉积技术在不同工作气压下制备Mo膜,研究了工作气压对Mo膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构的影响规律,研究表明:工作气压在0.1~0.5 Pa范围内,沉积速率基本保持不变,在0.5~1.5 Pa范围内沉积速率随工作气压的升高而增大;Mo膜的表面粗糙度随工作气压的升高而增加;不同工作气压下制备的Mo膜为立方结构,在较低工作气压下薄膜结晶性能较好.

关键词: 直流磁控溅射 , Mo薄膜 , 工作气压 , 沉积速率 , 表面形貌

无籽晶化学气相法生长ZnO晶体

胡永琴 , 曾体贤 , 陈太红 , 王茂州 , 彭丽萍 , 王雪敏 , 吴卫东

人工晶体学报

采用化学气相法自发成核的方式生长出φ4mm×5 mm ZnO单晶体.分析了化学气相输运机制,获得ZnO-C体系在生长过程中的压强为0.43 MPa,确定以扩散传输为主;设计了新的生长石英安瓿(锥角约为35°),让沿较快面生长的晶核能淘汰其他晶胚,易长大并形成单晶;X射线衍射测试晶体生长显露面为(002)面,其回摆曲线半峰宽为18arcsec;六边形的腐蚀蚀坑确定该面为ZnO(001)的Zn面,位错缺陷密度为103 cm-2量级.晶体在368 nm处出现了较强的紫外发光峰,属带边激子跃迁;紫外透过率在450~1000 nm内达65%,截止波长为390 nm,对应禁带宽度约为3.12 eV.结果表明,采用无籽晶化学气相法生长的ZnO晶体结晶度好,质量较高.

关键词: ZnO , 无籽晶化学气相输运 , 透过率

化学气相法生长ZnO单晶的热动特性研究

彭柱 , 曾体贤 , 陈太红 , 彭丽萍 , 王新明 , 王雪敏 , 吴卫东

人工晶体学报

研究了ZnO-C体系化学气相法生长ZnO单晶的Zn、CO、O2、CO2、ZnO气体热力学平衡过程,计算发现主要气相物种为Zn,CO.分析了Zn和CO在N2,Ar,He气体中的扩散系数,发现Ar气既可抑制Zn物质流传输,又可减缓Zn扩散系数随温度升高而递减的趋势,是较适宜的外加气体.建立了ZnO单晶气相生长一维传输模型,揭示了Zn的动力学输运过程,获取了三个温度梯度下(氩气背景压力分别为0 atm、0.5 atm、1 atm)Zn的物质流密度,以及温度梯度、背景压力对最大生长速率的影响.

关键词: ZnO单晶 , 化学气相法 , 热力学 , 动力学

红外非线性光学晶体CdSe生长与性能表征

曾体贤 , 赵北君 , 朱世富 , 何知宇 , 卢大洲 , 陈宝军 , 唐世红

人工晶体学报

采用垂直无籽晶气相法(VUVG)生长出尺寸达26 mm×45 mm的CdSe单晶体,对CdSe晶体的稳态气相生长速率进行了深入讨论.采用气相升华法提纯后的CdSe多晶原料的X射线粉末衍射谱与PDF卡片值(65-3436)吻合,生长出的单晶体{100}和(110)面XRD衍射峰尖锐,无杂峰,且{100}面出现3级衍射峰.晶锭密度为5.74 g/cm3,与理论计算值接近.退火处理后的晶片在1000~7000 cm-1 红外波段范围内透过率达到70%.采用VUVG法生长的CdSe单晶体,结晶性能好、结构致密、尺寸大和红外透过率高,可用于制备红外非线性光学器件.

关键词: CdSe单晶 , 气相生长 , VUVG法 , 性能表征

ZnO晶体Al杂质与Zn间隙共存的复合缺陷研究

曾体贤 , 胡永琴 , 杨辉 , 王茂州 , 张敏 , 樊龙 , 吴卫东

人工晶体学报

利用第一性原理,研究了ZnO晶体Al杂质与Zn间隙共存的复合缺陷(AlZnZni)电子结构和光学性质.计算结果显示,AlZnZni复合缺陷的形成能为-3.180 eV,较低的形成能表明这种缺陷容易形成;复合缺陷使ZnO晶体的能带整体下移,带隙减小,价带区域展宽;电子能带结构的变化对ZnO的光学性质在低能产生了重要影响,主要表现在:介电函数虚部往低能方向移动且强度显著增强,使得ZnO表现出简并半导体的特性;复合缺陷导致ZnO晶体光学吸收边缘产生了红移,可见光区的吸收系数增大,透过率降低.

关键词: ZnO , 第一性原理 , 复合缺陷

ZnO单晶的生长表面形貌及形成机制研究

王茂州 , 曾体贤 , 胡永琴 , 彭丽萍 , 王雪敏 , 吴卫东

人工晶体学报

采用石墨辅助化学气相传输法生长了ZnO单晶体.利用XRD、金相显微镜和扫描电镜等对晶体结构和表面形貌进行研究,发现其表面由大量六边形台阶堆垛而成,单个晶粒呈六方伞状结构并始终显露(001)面.同一平面内台阶的大小、陡峭程度存在差异,台阶之间为平行走向.通过形成机制分析,获得生长体系的过饱和度σv约为7%,发现生长表面的腐蚀形貌为六边形平底蚀坑,确定在化学气相法中ZnO单晶呈台阶生长的主要条件是螺旋位错.

关键词: 氧化锌单晶 , 化学气相法 , 表面形貌 , 生长机制

硒化镉晶体定向切割方法研究

卢大洲 , 朱世富 , 赵北君 , 曾体贤 , 何知宇

人工晶体学报

根据硒化镉(CdSe)晶体结构的特点,发展了一种简便、快捷、准确的定向方法.此法只需观察CdSe晶体解理面上台阶的走向,便可确定CdSe晶体的C轴方向,即解理面上台阶延伸的方向为CdSe晶体的C轴方向,并采用X射线衍射法对结果进行了验证.已知C轴和某一晶面,借助激光正反射技术,可在CdSe单晶体上定向切割出任意所需的晶面.

关键词: CdSe , 晶体定向 , 晶体结构 , 解理面 , 台阶 , 激光正反射

电解抛光技术研究进展

张素银 , 杜凯 , 谌加军 , 詹勇军 , 曾体贤

电镀与涂饰 doi:10.3969/j.issn.1004-227X.2007.02.014

介绍了电解抛光技术的研究现状、特点及抛光原理,分析了工件表面粗糙度的主要影响因素.指出了电解抛光技术存在的问题.

关键词: 电解抛光 , 原理 , 粗糙度 , 影响因素

晶体LiCl∶Ni2+局域结构、吸收光谱和电子顺磁共振谱的研究

陈太红 , 何仕碧 , 李明尚 , 熊竹韵 , 曾体贤

人工晶体学报

采用半自洽场自由Ni2+的3d轨道模型以及点电荷-偶极子模型,利用完全对角化方法,建立了LiCl∶Ni2+晶体的D2h对称局域结构与吸收光谱、电子顺磁共振谱之间的定量关系,统一解释了LiCl∶Ni2+晶体的局域结构与吸收光谱、电子顺磁共振谱,确定了实验中测得的零场分裂D、E的符号,预测了实验中未测得的LiCl∶Ni2+晶体的精细吸收光谱.理论计算结果与实验观测值符合得很好.

关键词: 晶体场 , 局域结构 , 吸收光谱 , 电子顺磁共振谱 , 完全对角化

CdSe晶体倍频光学参数及元件加工研究

曾体贤 , 赵北君 , 朱世富 , 何知宇 , 陈宝军 , 卢大洲

人工晶体学报

对红外非线性光学晶体CdSe的倍频光学参数及其元件加工进行了研究.根据非线性光学原理和折射率色散关系,从理论上计算出CdSe晶体的有效非线性系数和倍频元件相位匹配角与基频光波长(5.5~10.0 μm)的调谐特性曲线,从实验上探索到一种通过解理试验和XRD定向测试,快速确定其光轴方向的晶体定向新方法.结果表明,CdSe晶体在Ⅱ类相位匹配条件下的有效非线性系数d_(eff)为d_(15)sinθ,倍频转换效率与方位角无关;在Ⅰ类相位匹配条件下其有效非线性系数d_(eff)恒等于0,无倍频输出.根据理论计算结果,运用定向新方法,针对VUVG法生长出的外观无方向特征的CdSe晶体,经定向切割、研磨和抛光,初步加工出基频波长为9.6 μm的CdSe晶体Ⅱ类相位匹配倍频元件, 尺寸达9.5 mm×9.5 mm×18 mm.

关键词: CdSe晶体 , 相位匹配 , 单晶定向 , 元件加工

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