邱智文
,
杨晓朋
,
韩军
,
曾雪松
,
李新化
,
曹丙强
无机材料学报
doi:10.3724/SP.J.1077.2014.13284
采用高压脉冲激光沉积法(HP-PLD)研究了压强、金催化层厚度对钠掺杂氧化锌纳米线(ZnO∶Na)生长的影响,并制备了ZnO∶A1薄膜/ZnO∶Na纳米线阵列同质pn结器件.实验发现,当金膜厚度为4.2 nm,生长压强为3.33×104 Pa,生长温度为875℃时,可在单晶Si衬底上生长c轴取向性良...
关键词:
钠掺杂
,
氧化锌纳米线
,
高压脉冲激光沉积(HP-PLD)
