靳福江
,
卢兵
,
朱凤稚
,
罗峰
,
柳星
,
代伟男
,
刘华
,
范峻
液晶与显示
doi:10.3788/YJYXS20142904.0521
介绍了新型TFT LCD黑矩阵细线化研究.在原有工艺设备的基础上,突破设备局限和工艺瓶颈,通过引入相掩膜技术和背面曝光设备,达到进一步减小黑矩阵线宽的效果.实验测试结果显示:在普通掩膜板设计上应用相位移掩膜板技术,降低透光区边缘衍射和散射现象,使曝光后黑矩阵线宽降低1.0～1.5 μm.在原有工艺基...
关键词:
黑矩阵
,
线宽
,
相位移掩膜板
,
背面曝光
