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螺旋波等离子体沉积纳米硅薄膜结构特性

于威 , 朱海丰 , 王保柱 , 韩理 , 傅广生

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2004.02.008

采用螺旋波等离子体化学气相沉积(HWPCVD)技术,以SiH4作为源反应气体在Si(100)和玻璃衬底上制备了纳米Si薄膜.通过X射线衍射(XRD)、Raman光谱、原子力显微镜(AFM)对所制备的材料结构和形貌等特性进行表征,分析了纳米Si薄膜结构随衬底温度变化的规律.实验结果表明,在较低的衬底温...

关键词: 螺旋波等离子体化学气相沉积 , 纳米硅薄膜 , 结构特性