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InGaP/GaAs串接太阳电池的设计与研制

张永刚 , 刘天东 , 朱诚 , 洪婷 , 胡雨生 , 朱福英 , 李爱珍

稀有金属 doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2004.03.020

研制了InGaP/GaAs串接太阳电池,结果表明,电池的转换效率在21%~24%之间(1AM0,28 ℃),填充因子在79%~81%之间,并对其材料结构、器件工艺制作以及性能测量表征等进行了讨论.

关键词: 光伏 , 串接太阳电池 , 化合物半导体 , InGaP/GaAs

气态源分子束外延生长重碳掺杂p型InGaAs研究

徐安怀 , 陈晓杰 , 齐鸣 , 朱福英

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2004.04.005

采用气态源分子束外延( GSMBE)技术,以四溴化碳( CBr4)作为碳杂质源,系统研究了 InP衬 底上碳掺杂 p型 InGaAs材料的外延生长及其特性,在 AsH3压力 5.33× 104Pa,生长温度 500℃条件 下获得了空穴浓度高达 1× 1020/cm3、室温迁移率为 45cm2/Vs的重碳掺杂 p型 In0.53Ga0.47As材料. 研究了 CBr4和 AsH3束流强度以及生长温度等生长条件对碳掺杂 InGaAs外延层组份、空穴浓度和 迁移率的影响,并对不同生长条件下的氢钝化效应进行了分析.

关键词: 分子束外延 , 碳掺杂 , 四溴化碳 , InGaAs , 异质结双极晶体管

缓冲层对氮化镓二维生长的影响

赵智彪 , 齐鸣 , 朱福英 , 李爱珍

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2002.02.009

报道了在射频等离子体(RF-Plasma)辅助的分子束外延(MBE)技术中,使用白宝石(0001)衬底,采用低温缓冲层工艺外延氮化镓(GaN).通过原子力显微镜(AFM)的表面形貌比较及X射线双晶衍射(XRD)ω扫描摇摆曲线的分析,讨论了低温缓冲层成核机理及缓冲层生长温度与形成准二维生长的关系,确立了缓冲层的三维成核、准二维生长的生长机理,并在此基础上实现了氮化镓外延层更好地二维生长,进一步提高了氮化镓外延层的晶体质量.

关键词: 氮化镓 , RF-Plasma分子束外延 , 原子力显微镜 , X射线衍射分析 , 缓冲层

射频等离子体分子束外延GaN的极性研究

赵智彪 , 齐鸣 , 朱福英 , 李爱珍

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2002.04.007

对采用射频等离子体分子束外延(RF-plasmaMBE)生长得到的GaN进行极性研究.由于镓极性(Ga-polar)比氮极性(N-polar)有更好的化学稳定性,通过比较RF-plasmaMBE生长得到的不同GaN样品对光辅助湿法刻蚀的稳定性,发现缓冲层生长条件对GaN外延层的极性有着重要影响:较高缓冲层生长温度得到的GaN外延层表现为N-polar,较低缓冲层生长温度得到的GaN外延层表现为Ga-polar.

关键词: GaN , 分子束外延 , 原子力显微镜 , 光辅助湿法刻蚀 , 极性

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