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Ge/GaAs中APD及薄膜性能研究

杨茹 , 李国辉 , 仁永玲 , 阎凤章 , 朱红清

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.03.035

研究了一种光纤通讯用光电探测器.在GaAs上蒸镀800nm的Ge,并在此材料基础上提出了一种吸收倍增分离的雪崩二极管(SAM-APD)的结构设计,采用GaAs作为倍增区,Ge作为吸收区.在此结构上初步制作的二极管正向开启电压为0.2~0.3V,反向击穿电压为2.5V,漏电不明显,p-n结特性良好.

关键词: Ge/GaAs , 吸收倍增分离 , 雪崩光电二极管(APD)

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