陈朋
,
满卫东
,
吕继磊
,
朱金凤
,
董维
,
汪建华
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2011.03.010
近年来,掺硼金刚石(BDD)膜因具备独特的优异性能而作为电极材料已经受到很大的关注.本文通过MPCVD法在高掺杂硅衬底上生长掺硼金刚石膜,并用四探针、扫描电镜、激光拉曼和电化学工作站对其进行了检测,发现所制备的掺硼金刚石膜电导率达10-2Ω·cm,同时发现金刚石膜质量因硼原子的掺入而有所下降,采用循...
关键词:
化学气相沉积
,
掺硼金刚石(BDD)膜
,
电化学性能
,
循环伏安法
