徐芸芸
,
张韬
,
陈晰
,
徐新
,
李争鸣
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2009.04.009
利用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了高度C轴择优取向的纳米ZnO薄膜,采用扫描电子显微镜、电子能谱仪和X射线衍射分析仪研究了溅射过程中和热处理过程中氧气对ZnO薄膜形貌、成分以及结构的影响规律.结果表明:在溅射过程中和退火过程中通入适量的氧气,ZnO薄膜(002)衍射面的晶面间距变小,薄膜中的氧含量提高,薄膜中的缺陷减少.在空气气氛中退火2h的薄膜,质量几乎接近了在溅射过程中通入氧气所制得的样品.因此在溅射制备ZnO薄膜时,可以减少氧气用量甚至无需通入氧气,而在热处理过程中实现增氧,从而降低了制备成本,简化了薄膜的制备工艺.
关键词:
ZnO薄膜
,
XRD
,
氧气
,
退火
徐芸芸
,
张韬
,
李争鸣
,
徐新
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2011.06.018
采用射频磁控溅射技术制备Sb2O3/CeO2共掺杂ZnO薄膜,研究了薄膜的结构及紫外光吸收性能.结果表明:Sb2O3和CeO2共同掺入ZnO薄膜后,ZnO(002)晶面的XRD衍射峰强度明显下降,ZnO薄膜呈混晶方式生长；共掺杂ZnO薄膜的紫外吸收性能明显优于纯ZnO薄膜,Sb对掺杂ZnO薄膜的结构和紫外吸收性能的影响起主导作用,Ce起进一步的强化作用.
关键词:
磁控溅射
,
ZnO薄膜
,
掺杂
,
结构
,
紫外吸收
