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检索条件:作者=李全军  

  • 论文(4)

氢、氧等离子体处理对氮化硼薄膜场发射特性的影响

顾广瑞 , 金逢锡 , 李全军 , 盖同祥 , 李英爱 , 赵永年

功能材料

利用射频磁控溅射方法,在n型(100)Si基底上沉积了氮化硼(BN)薄膜,红外光谱测试表明,所有样品为六角氮化硼(h-BN)结构.经过氢、氧等离子体处理之后,在超高真空系统中测量了BN薄膜的场发射特性.实验结果表明,经过氢等离子体处理后BN薄膜的场发射开启电场明显降低,发射电流明显升高;而氧等离子体...

关键词: 氮化硼薄膜 , 场发射 , 氢等离子体 , 氧等离子体

脉冲频率对纯钛微弧氧化膜生长特性的影响

李全军 , 吴汉华 , 汪剑波 , 顾广瑞 , 金曾孙

无机材料学报 doi:10.3724/SP.J.1077.2006.00488

在Na2CO3-Na2SiO3电解液中, 利用微弧氧化技术在纯钛试样表面制备了氧化膜, 并研究了脉冲频率(500~8000Hz)对膜层生长、相组成及表面形貌的影响. 结果...

关键词: 微弧氧化 , pulse frequency , surface morphology , phase component

脉冲频率对纯钛微弧氧化膜生长特性的影响

李全军 , 吴汉华 , 汪剑波 , 顾广瑞 , 金曾孙

无机材料学报 doi:10.3321/j.issn:1000-324X.2006.02.037

在Na2CO3-Na2SiO3电解液中,利用微弧氧化技术在纯钛试样表面制备了氧化膜,并研究了脉冲频率(500~8000Hz)对膜层生长、相组成及表面形貌的影响.结果表明:当脉冲频率<2000Hz时,膜层的生长速率随频率增加迅速减小,当>4000Hz时,其生长速率几乎和频率无关.微弧氧化膜主要由锐钛矿...

关键词: 微弧氧化 , 脉冲频率 , 表面形貌 , 相组成

氮气分压对氮化硼薄膜场发射特性的影响

顾广瑞 , 吴宝嘉 , 李全军 , 金哲 , 盖同祥 , 赵永年

液晶与显示 doi:10.3969/j.issn.1007-2780.2004.02.010

利用射频磁控溅射方法,真空室中充入高纯N2(99.99 %)和高纯Ar(99.99 %)的混合气体,在n型(100)Si基底上沉积了氮化硼(BN)薄膜.红外光谱分析表明,BN薄膜结构为六角BN(h-BN)相(1 380 cm-1和780 cm-1).在超高真空(<10-7 Pa)系统中测量了B...

关键词: 场发射 , BN薄膜 , 氮气分压