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交流磁控溅射制备ZAO薄膜工艺参数的研究

李士元 , 付恩刚 , 庄大明 , 张弓

材料科学与工艺 doi:10.3969/j.issn.1005-0299.2005.06.025

对于交流磁控溅射氧化锌铝陶瓷靶材制备ZAO薄膜,研究了氧流量、基体温度、靶电流密度、铝的掺杂量、本底真空压力和工作气体压力对ZAO薄膜电学性能的影响规律,优化了工艺参数,为工业化生产提供了实验依据.

关键词: 磁控溅射 , ZAO薄膜 , 工艺参数 , 电阻率

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