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检索条件:作者=李桂鹏  

  • 论文(5)

旋转镀膜铌靶材加工工艺研究

张国军 , 汪凯 , 李桂鹏 , 任晓

材料开发与应用

研究了靶材不同加工工艺的组织,通过多向锻造,在变形量为80%,热处理工艺为1 050℃×90 min,制得的靶材具有均匀的等轴晶组织,晶粒尺寸40-100 μm.

关键词: 旋转镀膜铌靶材 , 工艺控制 , 晶粒尺寸

深冲铌带工艺研究

朱军 , 张亚军 , 李桂鹏 , 张春恒 , 张全

材料开发与应用

深冲铌带主要应用于电解电容器行业,深冲铌带不但要满足内部晶粒尺寸的要求,而且要满足其后续加工的力学性能要求.深冲铌带要经过多次的拉伸,对铌带的生产工艺提出了很高的要求.本文研究了锻造、轧制、热处理3个关键工艺,确定了能够满足电解电容器行业用深冲铌带的生产加工工艺.

关键词: 深冲铌带 , 晶粒尺寸 , 锻造工艺 , 轧制工艺 , 热处理工艺

Ta/Cu真空扩散焊工艺及界面研究

周方明 , 张富强 , 宋飞远 , 李桂鹏 , 同雷

稀有金属材料与工程

研究了工艺参数对Ta/Cu真空扩散焊的影响.利用扫描电镜(SEM)、能谱分析(EDS)、显微硬度等测试方法对结合面微区进行了分析.结果表明:采用真空扩散焊工艺,在焊接压力为10 MPa及焊接时间为60 min的工艺参数下,界面孔洞随着焊接温度的升高而减少,在焊接温度达到1000℃时,结合面内孔洞基本...

关键词: 钽/铜 , 真空扩散焊 , 结合界面 , 显微硬度 , 剪切强度

溅射镀膜用铌靶材晶粒尺寸控制工艺研究

李兆博 , 张春恒 , 李桂鹏 , 同磊

材料开发与应用 doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2010.06.009

铌靶材主要应用于表面工程材料,如船舶、化工、液晶显示器(LCD)以及耐热、耐腐蚀等镀膜行业.作为被溅射的基材,为了获得均匀一致的薄膜淀积速率,对溅射铌靶材的主要要求是均匀的组分、合适的颗粒尺寸以及具体的结晶学取向.本文主要研究在实际生产中,锻造工艺、轧制工艺以及热处理工艺对溅射镀膜用铌靶材晶粒尺寸的...

关键词: 溅射镀膜铌靶材 , 晶粒尺寸 , 等轴晶组织

一种应用于半导体的钽板制备工艺研究

张春恒 , 吴红 , 李桂鹏 , 同磊 , 汪凯 , 李兆博

材料开发与应用 doi:10.3969/j.issn.1003-1545.2010.06.008

磁控溅射吸附器应用于半导体制造的金属化工艺,其作用是在溅射过程中起到聚焦和净化的作用.由于需要在表面进行均匀一致的滚纹处理,所以对其坯料的板形以及同板差有非常严格的要求,同时对内部组织也有较高要求.为了制备满足其要求的钽板,本文主要从锻造工艺以及轧制工艺进行讨论,最终得到适宜于批量生产的加工工艺,使...

关键词: 溅射 , 同板差 , 晶粒度