李永祚
金属学报
本文研究了渗态和高温静态氧化状态下的K-3合金无机盐料浆法制Al-Si涂层中Si的存在形式及其分布。 实验结果表明,Si在渗态涂层中主要以Ni和难熔金属的硅化物((Ni,Cr)_3Si,(Mo,W,Ti)Si_2,Ti_5Si_3]形式存在,并以点状弥散分布在外层β-NiAl相中。其分布深度大约40μm范围内。 高温静态氧化,不但改变了涂层的组织结构,而且还改变了Si在涂层中的存在形式和分布。 在高温氧化后的涂层中,Si的存在形式主要有两种:在涂层的表层,它是以硅酸盐的形式存在;在涂层的内层,主要以固溶状态形式溶解在M_6C碳化物相中,并在涂层与合金基体之间形成连续的含Si的M_6C隔层。
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