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反应离子刻蚀工艺仿真模型的研究

陆建祖 , 魏红振 , 李玉鉴 , 张永刚 , 林世鸣 , 余金中 , 刘忠立

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.04.031

以SF6/N2混合气体对Si反应离子刻蚀工艺研究为例提出干法刻蚀计算机工艺模拟的方法:在分段拟合优化工艺条件下采用人工神经网络方法建立干法刻蚀仿真模型,可以予测给定射频功率、总气流量下刻蚀速率和纵横比,并且以仿真实验数据训练模型学习,模型具有通用性,与设备无关.

关键词: 干法刻蚀 , 工艺仿真 , 人工神经网络

ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟

谭满清 , 陆建祖 , 李玉鉴

功能材料与器件学报 doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2000.03.028

以实验数据为基础,运用人工神经网络方法,建立了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECRPlasmaCVD)淀积硅的氮、氧化物介质膜的折射率、速率与气流配比Q(N2)/Q(SiH4)和Q(O2)/Q(SiH4)关系的数学模型,此模型在给定气流配比Q(N2)/Q(SiH4)和Q(O2)/Q(SiH4)时所预测的成模折射率跟实验值符合得很好,为ECRPlasmaCVD淀积全介质光学膜的工艺打下坚实的基础.

关键词: ECRPlasmaCVD , 人工神经网络 , 气流配比 , 折射率 , 淀积速率

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