王庆富
,
刘清和
,
王晓红
,
郎定木
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李科学
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唐凯
,
刘卫华
稀有金属材料与工程
利用电化学测试技术、扫描电镜(SEM)及X射线能谱(EDS)对磁控溅射离子镀铌贫铀的电化学腐蚀行为进行了研究.实验结果表明:在50μg/g Cl-的KCl溶液中,铌的腐蚀电位远高于贫铀的腐蚀电位,铌镀层对贫铀是阴极性镀层,对贫铀的保护是基于其对腐蚀介质的物理屏障作用;镀铌贫铀的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀,腐蚀电流远小于贫铀,铌镀层对贫铀具有良好的防腐蚀性能;镀铌贫铀的腐蚀特征为局部腐蚀,并由孔蚀向电偶腐蚀转变.
关键词:
贫铀
,
铌镀层
,
磁控溅射离子镀
,
电化学腐蚀
鲜晓斌
,
任大鹏
,
吕学超
,
张永彬
,
李科学
,
唐凯
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2001.06.006
对在U上化学镀Ni-P工艺进行了研究,并用扫描透射电镜(STEM),X射线衍射仪研究了P含量为9.00～10.50(质量分数)的Ni-P镀层性能、经不同温度热处理后其组织结构的转变以及室温稳定性.结果表明:镀后镀层组织为非晶态,但局部存在短程有序的尺度差异,室温下非晶态组织是稳定的;高温下,非晶态将转变为Ni、Ni3P晶体组织.
关键词:
化学镀
,
非晶态
,
组织结构
,
稳定性
鲜晓斌
,
吕学超
,
刘清和
,
李科学
,
唐凯
,
刘卫华
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2003.05.005
用循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀(MSIP)和化学镀分别在U表面上沉积Cu、Ni-P/Cu,并采用俄歇电子能谱仪(SAM)、扫描透射电镜(STEM)、电化学实验,研究了其表面、剖面形貌和耐蚀性能,以及U基和镀层界面.结果表明:U上循环Ar+轰击-磁控溅射离子镀Cu结晶细密,界面存在较宽的原子共混区,U表面先溅射沉积Cu镀层,再化学镀非晶态Ni-P镀层,能够有效地改善镀层的结合强度.
关键词:
Ni-P/Cu镀层
,
组织结构
,
耐蚀性能
