罗巍
,
周雪珍
,
李艳花
,
项神佑
,
李永绣
稀土
doi:10.3969/j.issn.1004-0277.2011.03.003
以SnCl2·2H2O和Ce2(CO3)3·8H2O为原料,氨水为沉淀剂,采用湿固相机械化学法制备了不同比例的锡铈复合氧化物.研究了煅烧温度和反应物配比对最终产物相组成和粒度大小的影响,并分别评价了用于K9、ZF7玻璃的抛光性能.结果表明,复合氧化物的主晶相为立方萤石型氧化铈,次晶相为二氧化锡.随煅...
关键词:
锡铈复合氧化物
,
化学机械抛光
,
光学玻璃
金靇
,
孙戊辰
,
焦晓燕
,
李艳花
,
罗巍
,
李永绣
中国稀土学报
将水合碳酸铈与硝酸铝和氨水共同进行机械球磨,使新形成的无定型氢氧化铝包覆在细小的碳酸铈颗粒表面,经脱水干燥和煅烧,以制备出表面掺杂有氧化铝的氧化铈.结果表明:球磨中间产物仍然以水合碳酸铈为主,氢氧化铝的形成阻碍了碳酸铈的无定型化和向氢氧化铈的转化过程.在氧化铝掺杂量不超过10%的条件下,煅烧产物均具...
关键词:
二氧化铈
,
铝掺杂
,
抛光
,
机械化学合成
,
稀土
李艳花
,
傅毛生
,
危亮华
,
周雪珍
,
周新木
,
李永绣
中国稀土学报
以硝酸铈为原料,十二烷基苯磺酸钠为分散剂,过氧化氢为氧化剂,氨水为沉淀剂,采用直接沉淀法制备了粒径分布均匀的纳米氧化铈粉体,并通过XRD,TEM等手段对粉体进行了表征.采用所制备的氧化铈粉体配置成抛光浆料对硅片进行抛光,研究了浆料pH值、固含量及过氧化氢浓度对n型半导体硅晶片(111)晶面抛光性能的...
关键词:
纳米CeO2粉体
,
化学机械抛光
,
材料去除速率
,
硅晶片
,
稀土
