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反应磁控溅射法高速低温沉积锐钛矿相TiO₂薄膜的结构与光学性能

李铸国三宅正司

金属学报

采用诱导型耦合等离子体辅助直流磁控溅射法在石英玻璃片上反应沉积TiO₂薄膜, 通过X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和紫外可见光谱(UV-Vis)对薄膜特性进行表征. 结果表明, 叠加诱导型耦合等离子体和局部富氧增加了等离子体的反应活性, 在金属溅射模式和低于 200 ℃的沉积条件下, 制备了高质量的锐钛矿相TiO₂薄膜; 该薄膜在550 nm处的折射率和消光系数分别为2.51 和7.8×10^-4.

关键词: TiO₂薄膜 , magnetron sputtering , metallic sputtering mode , low-temperature deposition , refractive index