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氧化锆空心球粉体制备及其涂层性能研究进展

李飞 , 李雁淮 , 徐可为 , 宋忠孝 , 张智 , 崔红 , 周莉

稀有金属材料与工程

粉体是决定等离子喷涂热障涂层性能的基本因素,本文主要介绍了高性能等离子喷涂热障涂层用氧化锆空心球粉体的制备方法及其涂层性能的相关研究.等离子球化和喷雾干燥造粒是制备氧化锆空心球粉体的两种不同方法;氧化锆空心粉体在等离子喷涂过程中更易熔化,并且在熔化后形成空心液滴;空心液滴与基体碰撞铺展过程中存在的“...

关键词: 热障涂层 , 等离子喷涂 , 氧化锆 , 空心球粉体

共沉淀纳米YSZ晶体结构演变的全谱拟合分析

李飞 , 李雁淮 , 宋忠孝 , 徐可为 , 张智 , 崔红

稀有金属材料与工程

采用X射线结合全谱拟合,对共沉淀纳米YSZ制备过程中的晶体结构演变进行了分析.结果表明,四方纳米YSZ的含量与锻烧温度有关;在低锻烧温度下生成的四方纳米YSZ具有错乱的品格,其晶格参数随锻烧温度的升高而变化,经1200℃锻烧后恢复;四方纳米YSZ的晶粒尺寸随锻烧温度的升高先减小后增大.同时探讨了品格...

关键词: YSZ , 共沉淀 , 晶体结构 , 全谱拟合

脉冲电压幅值对等离子体化学气相沉积TiN薄膜膜基结合行为的影响

马胜利 , 李雁淮 , 徐可为

金属学报

用工业型脉冲等离子体化学(PCVD)设备. 在高速钢(W18Cr4V)和钴基硬质合金SC30基材表面沉积了TiN薄膜, 用扫描电镜(SEM)和连续加载压入仪研究了脉冲电压幅值对膜基结合行为的影响, 结果表明:随脉冲电压在550-750V之间逐渐增大, TiN晶粒增大, 膜层脆性增加, 沉积速率提高....

关键词: PCVD , null , null , null

脉冲电压幅值对等离子体化学气相沉积TiN薄膜膜基结合行为的影响

马胜利 , 李雁淮 , 徐可为

金属学报 doi:10.3321/j.issn:0412-1961.2000.01.018

用工业型脉冲等离子体化学气相沉积(PCVD)设备,在高速钢(W18Cr4V)和钴基硬质合金SC30基材表面沉积了TiN薄膜,用扫描电镜(SEM)和连续加载压入仪研究了脉冲电压幅值对膜基结合行为的影响.结果表明:随脉冲电压在550-750 V之间逐渐增大,TiN晶粒增大,膜层脆性增加,沉积速率提高,但...

关键词: PCVD TiN , 膜基结合力 , 压入法

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