彭鸿雁
,
申家镜
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杨贵龙
,
邵春雷
,
魏雪峰
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杨广亮
,
金曾孙
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2001.03.022
采用一种改进的热丝CVD系统沉积金刚石膜。在传统热丝CVD腔中设置一套红外线发
生器，中心波长3.5μm,处于氢与甲烷分子拉伸振动吸收峰位置。由于共振吸收能量使反应气
体分解加强,在反应区获得较高浓度的原子氢和活性碳氢基团，使金刚石膜的生长速率和品质
得到了提高。
关键词:
光子热丝
,
金刚石膜
,
生长速率
金曾孙
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吕宪义
,
杨广亮
,
吴汉华
,
李哲奎
,
刘建设
功能材料
用EA-CVD(Electron assisted Chemical Vapor Deposition)方法制备出金刚石膜,并且用拉曼光谱、荧光谱、红外吸收谱和顺磁共振谱研究了金刚石膜中的氮杂质.实验结果表明,用EA-CVD方法制备的金刚石膜中氮杂质主要是以Ns0、Ns+、[N-V]0和[N-V]-1的形式存在,没有检测到在天然金刚石和高温高压金刚石中常见的A和B中心形式存在的氮杂质.沉积实验中随着氢气流量的增加,也就是金刚石膜沉积环境中氮浓度的减少,金刚石膜中氮杂质含量减少.
关键词:
EA-CVD方法
,
金刚石膜
,
氮杂质
吕宪义
,
金曾孙
,
杨广亮
新型炭材料
doi:10.3969/j.issn.1007-8827.2005.03.014
根据金刚石厚膜的实际应用要求,建立了EA-CVD(Electron Assisted Chemical Vapor Deposition)方法,制备出直径为80 mm,膜厚为1 mm以上的大尺寸高品质的均匀金刚石厚膜,其膜厚不均匀性小于5 %,热导率不均匀性小于10 %,膜片中部和边缘磨耗比基本相同,大约在1.5×105左右.同时研究了制备参数对膜的品质和膜厚均匀性的影响.结果表明:甲烷浓度、工作气压、偏流、灯丝与基片间距等参数对金刚石厚膜的品质和膜厚均匀性都产生影响.辉光等离子体的状态对膜的均匀生长作用明显,较低的工作气压,较大的偏流和较大的灯丝与基片间距有利于气体分解和辉光等离子体的发散,从而导致大面积金刚石厚膜不同位置的品质和膜厚趋于均匀.
关键词:
EA-CVD
,
金刚石厚膜
,
品质和膜厚均匀性
