董凯锋
,
程晓敏
,
鄢俊兵
,
程伟明
,
缪向水
,
许小红
,
王芳
,
杨晓非
功能材料
采用射频磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了不同Ag层厚度的[Ag/FePt 2nm]10多层薄膜,经550℃真空热处理后,得到L10有序结构的FePt薄膜.实验结果显示,FePt单层薄膜经550℃退火30min后其易磁化轴处于垂直方向和面内方向之间,而550℃退火60min后其易磁化轴处于垂直于膜面方向,垂直矫顽力和面内矫顽力分别为634和302kA/m;真空退火后[Ag/FePt]10多层膜表现为面内磁晶各向异性,550℃退火60min后[Ag 2.8nm/FePt 2nm]10多层薄膜垂直矫顽力和面内矫顽力分别为309和778kA/m,并且随着Ag层的加入,部分FePt颗粒已经被Ag原子隔开了,颗粒之间的交换耦合作用变弱了.
关键词:
FePt薄膜
,
矫顽力
,
退火时间
程伟明
,
李佐宜
,
杨晓非
,
黄致新
,
鄢俊兵
,
李震
,
程晓敏
,
林更琪
稀有金属材料与工程
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了TbFeCo/Pt非晶垂直磁化膜,研究了Pt底层对TbFeCo薄膜磁性能与磁光性能的影响.结果表明:具有微小颗粒凹凸结构的Pt底层可以显著增大TbFeCo薄膜的垂直磁各向异性场与矫顽力,改善薄膜的磁光温度特性.
关键词:
射频磁控溅射
,
Pt底层
,
TbFeCo/Pt非晶垂直磁化薄膜
,
矫顽力
,
克尔旋转角
李佐宜
,
游龙
,
宋敏
,
杨晓非
,
李震
,
程晓敏
,
林更琪
稀有金属材料与工程
为了改善记录介质的磁性能,研究了溅射Cr和CrTi底层对Co68Cr17Pt15性能的影响.发现在玻璃盘基和CoCrPt磁性层之间引入100 nm厚的Cr底层,可使介质矫顽力从56 kA·m-1增加到127 kA·m-1,同时剩磁比和矫顽力矩形比分别增加66%和74%.同时还发现Cr底层厚度对介质磁性能有较大影响.考虑到减小Cr底层和磁性层的晶格匹配,在Cr底层里添加Ti元素,当Ti原子分数达到1.5%时,即使在室温下溅射,薄膜也有好的面内磁滞回线,此时矫顽力可达到160 kA·m-1.X射线衍射表明在介质中引入Cr和CrTi底层,由于薄膜能更好的沿着垂直于易磁化轴方向生长而使介质性能提高.
关键词:
底层
,
磁性能
,
CoCrPt薄膜
程伟明
,
李佐宜
,
胡珊
,
杨晓非
,
董凯锋
,
林更琪
功能材料
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上成功制得了TbFeCo/Pt非晶垂直磁化膜,系统研究了溅射工艺参数对TbFeCo薄膜磁性能的影响.振动样品磁强计测量结果表明:Tb含量在补偿成分点附近,采用较低的溅射氩气压与Pt底层,有利于提高TbFeCo薄膜的磁性能;当Tb含量为0.24,溅射功率为300W,溅射气压为0.53Pa,薄膜厚度为140nm时,TbFeCo/Pt薄膜矫顽力达到476kA/m,饱和磁化强度为151kA/m,剩磁矩形比超过0.8,该薄膜有望用作高密度光磁混合记录介质.
关键词:
射频磁控溅射
,
非晶垂直磁化膜
,
矫顽力
,
饱和磁化强度
,
光磁混合记录
王昊
,
廖聪维
,
吴保磊
,
叶雪枫
,
杨晓非
功能材料
利用Stoner-Wohlfarth模型,概率型元胞自动机的模型和算法,在考虑了退磁场和交换作用的情况下对薄膜的磁滞回线进行了模拟,比较了温度以及和易轴取向变化时磁化曲线以及剩磁矩形比和矫顽力的不同及变化趋势.退磁场和交换作用的引入对磁化翻转过程有显著的影响,剩磁矩形比和矫顽力都有不同程度的提高.
关键词:
元胞自动机
,
Co薄膜
,
磁滞回线
,
退磁场
,
交换作用
董凯锋
,
杨晓非
,
鄢俊兵
,
程伟明
,
程晓敏
功能材料
采用射频磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了不同膜层结构的[Fe/Pt]n多层膜,经不同温度真空热处理后,得到L10有序结构的FePt薄膜.实验结果表明,[Fe/Pt]n多层膜结构可以有效降低FePt薄膜的有序化温度,350℃退火30min后其平行膜面矫顽力可达1.6×105A/m;多层膜结构中,Pt层厚度与Fe层厚度相同时,矫顽力最大,当Fe、Pt层厚度比偏离1:1时,在Fe/Pt接触处易产生Fe3Pt和FePt3软磁相;Pt层和Fe层厚度相等且总厚度相同的情况下,Fe、Pt单层厚度越薄,有序化温度越低,且对应的矫顽力大.
关键词:
L10-FePt薄膜
,
多层膜结构
,
矫顽力
,
有序化温度
张迪
,
程伟明
,
林更其
,
杨晓非
材料导报
使用射频磁控溅射方法在载玻片上制备Cu薄膜,并通过调整其溅射参数来改变Cu薄膜的内部结构.实验结果表明:当基的片加热温度为100～150℃、薄膜厚度为405 nm、溅射功率为150～300 W时,所制得的沿(111)面择优生长的Cu薄膜的Ⅰ(111)/Ⅰ(200)均大于15,可作为SmCo5垂直磁化薄膜的衬底层.
关键词:
射频磁控溅射
,
SmCo5
,
垂直磁化膜
,
Cu薄膜
程伟明
,
李佐宜
,
杨晓非
,
林更琪
,
晋芳
,
孙翔
稀有金属
doi:10.3969/j.issn.0258-7076.2006.04.002
采用射频磁控溅射法在玻璃基片上制备了NdTbCo/Cr非晶垂直磁化膜.探讨了溅射功率与溅射时间对薄膜磁性能的影响,发现当溅射功率为250 W,溅射时间为4 min时,垂直膜面方向矫顽力为272.8 kA·m-1,剩磁矩形比达到0.801,可以较好地满足高密度垂直磁记录的要求.研究了 Nd掺杂对薄膜磁性能与磁光性能的影响,发现随着Nd掺杂量的增多,薄膜的矫顽力从413.8下降为210.9 kA·m-1,饱和磁化强度与克尔旋转角则分别从144 kA·m-1和0.2720°上升为252 kA·m-1和0.3258°.温度对NdTbCo/Cr薄膜克尔旋转角的影响也与Nd的掺杂量密切相关.
关键词:
射频磁控溅射
,
非晶垂直磁化膜
,
矫顽力
,
剩磁矩形比
,
饱和磁化强度
,
克尔旋转角
程晓敏
,
杨晓非
,
董凯峰
,
李佐宜
功能材料
分别采用共溅射和多层膜溅射方法制备了FePt:Ag颗粒膜.样品的磁性能和微观特性分别用振动样品磁强计(VSM)、磁力显微镜(MFM)和透射电镜(TEM)进行了表征.研究结果表明:多层膜溅射制备的FePt:Ag颗粒膜能在较低的退火温度下发生有序化相变;而共溅射制备的FePt:Ag颗粒膜经过相同的退火条件后,具有更高的矫顽力,及更细、分布更均匀的晶粒和磁畴结构.
关键词:
FePt
,
Ag 颗粒膜
,
溅射方法
,
磁性能
,
微观结构
