杨武保
,
吕反修
,
唐伟忠
,
佟玉梅
,
于文秀
人工晶体学报
doi:10.3969/j.issn.1000-985X.2000.01.012
利用MPCVD方法在玻璃基片上成功的制备了非常光滑、致密均匀的纳米金刚石膜.沉积工艺分为两步:成核,CH4/H2=3%;生长,O2/CH4/H2=0.3:3:100;沉积过程中保持工作压力为4.0kPa,衬底温度500℃.拉曼、透射电镜、红外光谱、表面轮廓仪等的测试表明:膜层由纳米级金刚石晶粒组成,最大晶粒尺寸小于100nm,成核密度大于1011/cm2.成核面晶粒的点阵常数较大,表明存在较多缺陷,表面粗糙度小于2nm,在可见光区完全透明,红外光学性能接近金刚石单晶理论值.
关键词:
MPCVD
,
纳米金刚石膜
,
拉曼光谱
,
红外光谱
刘思用
,
林立
,
杨武保
,
孙惠峰
表面技术
doi:10.3969/j.issn.1001-3660.2007.03.014
利用高纯氮气和铝,采用离子反应镀的方法,在石英玻璃衬底上成功制得AlN薄膜.正交设计优化结果表明:AlN薄膜最大沉积速率达到0.81μm/min,其相应的工艺参数为:蒸发电压225V,轰击电压70V,轰击时N2气压为1.5999Pa.X-射线衍射、原子力显微镜、近红外光谱、拉曼光谱对薄膜进行了分析,证明了AlN薄膜的存在.
关键词:
氮化铝
,
薄膜
,
离子反应镀
,
工艺优化
