刘海鹰
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刁训刚
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王丽玲
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杨盟
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武哲
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舒远杰
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2007.01.002
利用磁控溅射制备了银含量在100%至80%之间的单层银铜合金薄膜和TiO2/AgxCu1-x/Ti/TiO2纳米四层膜.利用X射线衍射、扫描电子显微镜、扫描俄歇微探针,分光光度计、红外发射率测量仪对样品进行表征,研究了单层金属膜和多层膜的光学、电学性质随着银含量的变化以及热处理前后薄膜性能的变化.结果表明:相同厚度的合金膜,随着Ag含量的降低,导电性能下降,Ag含量低于80%的合金已不适合作为多层膜的金属层;150 ℃大气下热处理30 min,纯银薄膜性质发生明显变化,明视透过率下降10%,方块电阻由2.5 W/□增加至18 W/□,红外发射率由0.17增加到0.69.AgCu合金薄膜性质未发生明显变化.方块电阻相近的TiO2/AgxCu1-x/Ti/TiO2纳米多层膜,经250 ℃大气下热处理40 min后,TiO2/Ag/Ti/TiO2和TiO2/Ag80Cu20/Ti/TiO2纳米多层膜的性质变化较小,热稳定性较好,其余的多层膜性质发生较大变化,红外发射率显著增加.
关键词:
TiO2/AgxCu1-x/Ti/TiO2纳米多层膜
,
低红外发射率
,
磁控溅射
陈顺利
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刁训刚
,
杨盟
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刘海鹰
,
王天民
功能材料
利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了透明TiO2和TiO2-xNx薄膜样品,通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)及UV-Vis分光光度计等测试手段表征了样品的结构、形貌和光催化性能.结果表明制备的薄膜为锐钛矿相结构.随着N2/Ar气流比的增大薄膜样品出现新的物相,吸收光谱向可见光方向展宽,在N2/Ar流量比为3:100时,制备的薄膜在可见光区具有很好的光催化性能.
关键词:
掺氮TiO2薄膜
,
光催化
,
磁控溅射
杨盟
,
刁训刚
,
刘海鹰
,
武哲
,
舒远杰
功能材料
利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,分别采用两种方法对薄膜进行氮化处理,即:(1)利用氩气溅射在室温下制备薄膜,随后在氮气和氨气气氛下对薄膜进行热处理;(2)利用氩气/氮气共溅射成膜.利用X射线衍射、霍尔效应、UV-vis-NIR分光光度计等测试手段对薄膜样品进行表征,对比研究了两种氮化处理方法对ITO薄膜光电特性的影响.结果发现对于低温生长的薄膜,两种方法均能明显提高其在可见光区的透过率.氩气/氮气共溅射的方法会降低薄膜的结晶程度,降低载流子浓度,但使得其紫外/可见/近红外光谱发生明显红移;而热处理方法则能增加薄膜的结晶程度,提高其导电能力.
关键词:
射频磁控溅射
,
氨气和氮气气氛下热处理
,
氮气共溅射
,
ITO薄膜
孙裔
,
刁训刚
,
杨盟
,
武哲
,
舒远杰
稀有金属材料与工程
利用直流磁控溅射方法在柔性聚酯薄膜衬底上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,采用X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测量仪等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了氧含量、薄膜厚度、衬底负偏压对ITO薄膜的晶体结构和光电性能的影响,优化了柔性衬底ITO薄膜的制备工艺条件.制得样品的最佳可见光平均透过率为85.6%,方块电阻为6Ω/□.
关键词:
直流磁控溅射
,
柔性衬底
,
ITO透明导电薄膜
杨盟
,
刁训刚
,
孙裔
,
刘海鹰
,
武哲
,
舒远杰
功能材料与器件学报
doi:10.3969/j.issn.1007-4252.2006.05.022
利用直流磁控溅射技术室温下在柔性聚酯薄膜衬底上制备了ITO薄膜,将ITO薄膜与有机玻璃和空白聚酯薄膜等介质材料组合成复合结构,最终得到吸波能力较强的透明吸波体.该吸波体在Ku带(12~18GHz)范围波段衰减低于-10dB,峰值超过-20dB,且在可见光区透光率达到68%.
关键词:
直流磁控溅射
,
ITO薄膜
,
透明吸波体
杨盟
,
刁训刚
,
刘海鹰
,
王天民
稀有金属材料与工程
利用射频磁控溅射在室温玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜,并分别在氨气、氮气和空气气氛下对薄膜进行了热处理.利用X射线衍射、霍尔效应、UV-VIS-NIR分光光度计等测试手段对薄膜样品进行表征,研究了不同热处理气氛及温度对ITO薄膜光电特性的影响.结果发现在不同气氛下热处理均能明显提高ITO薄膜在可见光区的透过率,氨气气氛下更有利于薄膜导电特性的改善.
关键词:
射频磁控溅射
,
氨气和氮气气氛
,
热处理
,
ITO薄膜