杨素分
,
陈冷
功能材料
doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.07.012
用X射线衍射仪、原子力显微镜和磁强计研究了Ta缓冲层厚度变化时,Ta/FeMn/NiFe/Ta多层膜微观结构和磁性能的变化,分析了其微观结构和磁性能之间的关系。实验结果表明,随 Ta 缓冲层厚度增加,FeMn层织构、晶粒尺寸、位错密度、应变和界面粗糙度都发生明显变化,并且这些变化影响了多层膜的偏置场(H ex )和矫顽力(H c )的大小。结合实验现象和交换偏置(EB)的物理本质,讨论了微观结构对交换偏置的影响机理。
关键词:
交换偏置
,
多层膜
,
织构
,
界面粗糙度
,
晶粒尺寸
