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硅衬底MgB2-B-MgB2超导SNS约瑟夫森结的制备与特性

柯一青 , 周迪帆 , 刘珏 , 曾敏 , 朱红妹 , 张义邴

低温物理学报

利用两步原位电子束蒸发技术,在Si(111)衬底上制备了MgB2-B-MgB2超导SNS约瑟夫森夹心结.夹心硼(B)层厚度从10nm到80nm范围内MgB2-B-MgB2/Si(111)薄膜表现出明显的SNS约瑟夫森结特性,而在5nm和100nm处薄膜分别是整体超导和正常金属特性.在同一温度下,随着硼层厚度的增加,临界结电流减小,对同一厚度下,临界结电流随着温度的增加而减小.同时,实验指出,夹心硼SNS超导MgB2约瑟夫森结的电流-电压(I-V)曲线具有回滞现象,符合SM模型.

关键词: 约瑟夫森结 , MgB2 , 超导薄膜 , 电子束蒸发 , Si衬底

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