柳丽娜
,
高诚辉
,
李有希
,
李友遐
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2004.11.014
微电子技术的迅速发展要求电子元件薄膜化,从而促进了磁性薄膜的发展.为了达到控制溅射非晶态薄膜磁性的目的,从溅射非晶态薄膜的组成成分、溅射工艺参数、基体材料及温度、膜层厚度和镀后热处理工艺等几方面论述了影响非晶态溅射薄膜磁性的因素,结果表明,薄膜组成、膜厚、基材、溅射工艺及镀后热处理对溅射非晶态薄膜的磁性有较大的影响,应根据不同磁性要求加以控制.
关键词:
非晶态薄膜
,
溅射
,
磁性
李友遐
,
高诚辉
,
林有希
,
柳丽娜
材料保护
doi:10.3969/j.issn.1001-1560.2004.01.010
非晶态Ni-P类合金镀层具有很好的耐蚀性,在碱性溶液中具有较高的析氢反应催化活性,能降低析氢过电位,节约能源,是一种有很好应用前景的阴极材料.论述了非晶态Ni-P镀层的P含量、厚度、制备条件、添加第3种元素及镀后处理对镀层电极活性的影响.并总结了Ni-P类非晶态合金镀层的电极催化机理.
关键词:
非晶态
,
Ni-P合金镀层
,
析氢反应
,
电极性能