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用于HIT太阳能电池的非晶硅薄膜制备与性能研究

齐晓光 , 雷青松 , 杨瑞霞 , 薛俊明 , 柳建平

人工晶体学报

采用射频等离子体增强化学气相沉积技术(RF-PECVD),在不同硅烷浓度下制备本征非晶硅薄膜,研究薄膜材料的微结构和光电性能.研究表明,在硅烷浓度为5%时,制备的薄膜材料处于非晶/微晶相过渡区域,具有宽光学带隙、低吸收系数、较高电导率和较好的致密性.作为钝化层应用到HIT太阳电池中,具有良好的钝化效果,在n型单晶硅衬底上制备出了效率为13.92%的太阳电池.

关键词: RF-PECVD , 非晶硅薄膜 , 硅烷浓度 , HIT太阳电池

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